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具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。1級：主要應(yīng)用于電子工業(yè)，這是目前對凈化工程要求高的環(huán)境，集成電路要求的精度要達到亞微米。隨著微電子工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的突飛猛進，對潔凈室的要求越來越高。及時生產(chǎn)間內(nèi)的例子直徑僅有1微米，也會使產(chǎn)品壽命受到影響。設(shè)計合理的空間面積應(yīng)考慮到設(shè)備操作、維修的需要。生產(chǎn)區(qū)和儲存區(qū)應(yīng)有與生產(chǎn)規(guī)模相適應(yīng)的空間面積，用以安置設(shè)備、物料，便于操作和維修。

1級：塵埃易使芯片失效或者穩(wěn)定性下降，當金屬塵埃落于集成電路上時，就可能造成短路。當空氣中的酸性離子落在電路上時，可能將電路腐蝕，因此凈化空調(diào)系統(tǒng)對微電子工業(yè)而言至關(guān)重要。此外，液晶、光纖的生產(chǎn)也需要1級潔凈度的要求。布置工藝的流程盡可能短，減少交叉往復(fù)，、物流走向合理。要配備人員凈化室、物料凈化室，除配備產(chǎn)品工序要求的用室外，還應(yīng)配備潔具室、洗衣間、暫存室等，每間用室相互，凈化工程的面積應(yīng)在保證基本要求前提下，與生產(chǎn)規(guī)模相適應(yīng)。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。

潔凈廠房工程除了常規(guī)電、水、通風外，還有空調(diào)設(shè)備、凈化設(shè)備、工藝管道、照明等。在建造開始時，潔凈廠房工程地址的挑選應(yīng)合乎有益生產(chǎn)制造、便捷衣食住行、節(jié)約項目投資和運營花費的標準。凈室及凈化空調(diào)系統(tǒng)都達到了了潔凈的要求之后，凈化空調(diào)系統(tǒng)必須要進行試運轉(zhuǎn)。好連續(xù)運轉(zhuǎn)12個小時以上，然后再次進行清掃，擦凈潔凈室后立即安裝過濾器。一般生物潔凈室：主要控制微生物（細菌）對象的污染。同時其內(nèi)部材料要能經(jīng)受各種滅菌劑侵蝕，內(nèi)部一般保證正壓。